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  1. 長野工業高等専門学校教育研究報告
  2. 第1号

プラズマCVD法によるアモルファスSiNxCy膜の付着強度

https://nagano-nct.repo.nii.ac.jp/records/2000075
https://nagano-nct.repo.nii.ac.jp/records/2000075
6d5209e8-3d03-4ccd-8100-aa38164631e1
名前 / ファイル ライセンス アクション
101_02-06.pdf 101_02-06.pdf (680 KB)
アイテムタイプ 教育研究報告 / Departmental Bulletin Paper(1)
公開日 2024-08-30
タイトル
タイトル プラズマCVD法によるアモルファスSiNxCy膜の付着強度
言語 ja
タイトル
タイトル Adhesive strength of the amorphous SiNxCy ceramic films by P-CVD method
言語 en
言語
言語 jpn
キーワード
言語 ja
主題Scheme Other
主題 SiNxCy膜
キーワード
言語 ja
主題Scheme Other
主題 プラズマCVD法
キーワード
言語 ja
主題Scheme Other
主題 付着強度
キーワード
言語 ja
主題Scheme Other
主題 スクラッチ法
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ departmental bulletin paper
著者 堀口勝三

× 堀口勝三

ja 堀口勝三

en HORIGUCHI Katsumi

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森山実

× 森山実

ja 森山実

en MORIYAMA Minoru

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抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 Using a plasma CVD apparatus, SiNxCy films (Si3N4-SiC, SiNx, SiCy) are prepared from SiH4-90%Ar, NH3, C2H4 and H2 gases on a crown glass substrate. Adhesive strength is evaluated using critical peel load (Lc) and critical peel shear stress (σcs) as measured with the scratch test.
The effects of the compositional change from Si3N4 to SiC films are investigated. When the film thickness is 1 μm, the composition dependence is large, and Lc varies greatly from 19.5N to 44.3N, and σcs values are 1.0 to 1.53GPa. On the other hand, when film thickness is 5 μm, Lc values are 17.0 to 29.5N, and σcs values are 0.9 to 1.23GPa.
In addition, the film thickness and surface roughness of substrate have a large effects on the adhesive strength.
言語 en
書誌情報
巻 1, 号 2-06, 発行日 2024-08-30
出版者
出版者 長野工業高等専門学校
言語 ja
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 1882-9155
書誌レコードID
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AA1259397X
見出し
大見出し 研究報告
言語 ja
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Ver.1 2024-09-06 03:05:59.269353
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